首页 - 专利发明 - 附属

文献摘要

如需“文献摘要”全文,请与吕方联系, 电话:(010)64034804、64030431 传真:(010)64068094

2020年文献摘要

利用碳量子点制备紫外线屏蔽PVDF复合薄膜

  【编号】2020-15
  【题名】利用碳量子点制备紫外线屏蔽PVDF复合薄膜
  【作者】董莉,李向阳,杨宇明
  【机构】中国电子科技集团公司第三十八研究所;中国科学院长春应用化学研究所
  【刊名】工程塑料应用(2020年03期)
  【文摘】提供了一种制备紫外线屏蔽聚偏氟乙烯(PVDF)薄膜的简单、有效的方法。首先通过水热法制备有着很好紫外线吸收性能的碳量子点(CQDs),然后将碱溶液处理过的PVDF膜浸于CQDs/聚乙烯醇(PVAL)混合溶液中,在PVDF膜表面形成紫外线屏蔽层。通过傅里叶变换红外光谱仪、X射线光电子能谱分析、X射线衍射、透射电镜和紫外–可见分光光度计对CQDs颗粒的结构、形貌和光学性能进行表征,表征了制备的PVDF—OH@CQDs/PVAL复合薄膜的稳定性及紫外线屏蔽功能。结果表明,制得的直径约18nm的CQDs纳米粒子可以在溶液中很好地分散;CQDs有很高的吸光度,制备的PVDF–OH@CQDs/PVAL复合膜可以完全屏蔽紫外光。