|
东芝宣布从2008年度起在该公司四日市工厂的第四制造厂房导入不使用水即可去除温室气体之一——全氟化物（PFC）气体的干式排气处理装置。在第四制造厂房满负荷运转时，预计每天可减少约900m3，这相当于导入原来的排气处理装置时设想的废酸液排量的约80％。
在半导体制造工序中，干蚀刻工序会排放PFC气体。PFC气体的温室效果是CO2的数千倍，因此需要削减其排放量。东芝从2004年起导入排气处理装置，对排放的PFC气体进行处理。但是，原来的排气处理装置是在PFC气体分解后，将氟成分溶解在水中处理的，因此需要削减含氟的酸水排量。
此次决定导入的干式排气处理装置具有与原装置同等以上的PFC气体分解能力，此外还可通过化学反应将氟固化成氟化钙（CaF2）。这样，处理PFC气体时就无需再使用水，可大幅削减废酸液排量。此次的装置将陆续导入四日市工厂的所有厂房，而且还考虑向整个集团的半导体工厂推广。
| 
