【编号】2022-58

【名称】一种超低表面粗糙度的高压电响应PVDF超薄膜及其制备方法

【公开（公告）号】CN114864807A 

【公开（公告）日期】2022.08.05

【申请（专利权）人】清华大学

【摘要】本发明公开了一种超低表面粗糙度的高压电响应PVDF超薄膜及其制备方法，属于有机聚合物类超薄膜的制备技术领域。本发明提供的PVDF超薄膜的制备方法，包括如下步骤：(1)采用Langmuir–Blodgett单分子沉积技术制备PVDF薄膜；(2)采用水平Langmuir–Blodgett方法将所述PVDF薄膜转移至表面镀金属的硅基片上；(3)将纯硅基片覆盖在步骤(2)得到的薄膜上，进行热压退火处理，即得到PVDF超薄膜。本发明的制备方法简便高效，可制备出具有原子级平整表面的超薄有机铁电薄膜，同时实现薄膜厚度的精准调控和压电性能的提高。